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產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
MUM系列,MEMS用曝光裝置,日本曝光裝置,DNK大日本科研DSLY0505
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詳情介紹:
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在曝光過程中,通過移動掩膜來控制光刻膠表面的曝光能量分布。能夠制作有任意曲面及傾斜的三維微細構造體。
特點:
采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統(tǒng),實現(xiàn)**均勻的照射。
配備有可設定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位系統(tǒng)。
采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細移動)能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細構造體。
MUM系列 | ||
掩膜尺寸 | Max 9" x 9" x t3.0 mm | |
基板尺寸 | Max Φ8"(Wafer) | |
光源 | 超高壓水銀燈 :500W or 1kW | |
外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W2120 x D1305 x H1850 mm |
本體重量 | 640kg |
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
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